テクノロジー｜UV-LED露光装置（紫外線平行光照射装置）

光を考えるラヴィ・システムズ

フォトリソグラフィにおいて露光光源として超高圧水銀ランプを用いられてきましたが、UV-LEDを用いる事で次のような点が改善されます。

水銀を使用しないため、水俣条約および水銀汚染防止法の規制対象の恐れがありません。

ASTM G173 Reference

精密なフォトリソグラフィ（光リソグラフィ）やソーラシミュレーションを実現するためには、必要とされる光の波長だけではなく、より平行度の高い光が要求されます。この平行度は次の２種類の角度で評価されます。

照射面から見た光源の大きさを角度で表し、露光のパターン加工精度に影響する。
主に解像度に関係し、小さいほど解像度が向上するが、小さすぎるとマスクの小さな傷やごみも影響したり、マスクパターンによる回折の影響が大きくなる。

中心光線平行度は光源中心から来る光と照射面の法線（光軸）がなす角度（照射面内最大値）である。この角度は露光する際の位置ズレを大きく左右するため露光用光源の性能を評価する重要な指標となる。小さいほどレジストの膜が厚い場合でもパターン形状が中央と周辺で変化が小さい。